返回第368章 两边的进展(2 / 2)千禧年半导体生存指南首页

明年春天Mphone4发布,意味着一整年,智能手机的所有产品都会围绕Mphone4,所经之处寸草不生。

每一次新一代Mphone的发布,对整个行业都是一轮洗牌,当年设计越接近新一代Mphone的智能手机就能卖的越好。

黄章听完后没有之前那么胸有成竹了,他是狂不是傻,他没觉得现在的魅族能是Mphone的对手。

对标是指未来而不是现在。

“曹先生,感谢您的信息,我会和管理层再商量一下。”黄章说。

曹永罗的个人信息早就被社交媒体扒了个精光,他是周新在燕大的室友,同时又是Matrix供应链核心企业的掌门人。

因为钱来得光明正大,和周新合伙创业,所以曹永罗的个人信息在搜狐上并没有被掩盖,都能直接通过搜索引擎查到。

对于这种燕京来的erdai,黄章很客气。

曹永罗显然不想再客气了,“不是商量!不能再拖了,今年必须推新机,今年下半年甚至都晚了!

因为今年下半年各类媒体会开始爆料Mphone4,开始给Mphone4进行预热。

今年上半年魅族4就得出来!这是命令,不是我一个人的想法,是董事会所有投资人的想法。

如果你做不到,那等着管理层重组吧!”

曹永罗显得格外强势,他在这个项目上的投资已经超过2亿元了,他不想看到自己的2亿元打水漂是一方面,希望自己打造一个能和小米媲美的消费电子品牌是更重要的原因。

小米在全球消费电子市场扩张自己的版图,国内消费电子厂商们也在逐步蚕食国外巨头们的市场份额。

消费电子领域,新芯系的企业抵挡住了阿美利肯带来的利空,而半导体领域,ASML的攻势让新芯光刻机难以招架。

在今年旧金山举办的西部半导体展会上,ASML一口气推出了多款全新的光刻设备,帮助芯片制造商们可以继续缩小半导体元器件尺寸。

其中包括可编程照明技术和反馈式调控机制为ASML实现了一体化光刻技术,光刻机一体化能够帮助芯片制造工艺更加稳定,进一步提升良品率。

一直以来半导体行业发展的推动力来自小型化趋势,既能降低生产成本,又能提高元器件性能。

像华国未来要搞的光刻厂,力大砖飞属于毛子会选的技术路线,倒不是说这种技术不好,而是这种技术不适合过去二十年经济全球化、半导体产业高度分工的趋势。

当趋势结束,光刻机小型化变得不再重要,把东西造出来最重要。

当下还处于经济全球化的黄金时期,ASML的光刻机一体化让参展的半导体企业眼前一亮。

大家认为这是ASML时隔五年之后,对新芯光刻机在东京半导体设备展的回应。

跨越五年的回应。

随着半导体器件尺寸的缩小,工艺窗口(生产出合格芯片的工艺允许偏差)也会相应减小,使套刻精度和器件尺寸均匀性等参数变得更为严格。

ASML能做光刻机一体化,是因为欧美过去数十年积累的技术优势,在精度上能够满足光刻机一体化的要求,如果新芯能够获得供应链上下游的支持,他们同样能做到。

问题是这些企业很多都受到瓦森纳协定的限制,导致新芯在工艺制程上再度落后。

ASML应用产品部门的资深副总裁伯特说:“一直以来,芯片厂商对各个制造工艺步骤的优化都是独立进行的,然而当发展至32nm的时候。

这种独立的优化模式便不再适用。我们有效地综合了计算光刻技术、晶圆光刻技术和工艺控制,提供了一个全面方案,针对量产的要求去优化工艺窗口和光刻系统设置,最终实现更小的器件尺寸。

是的,这是我们第一次反超新芯光刻机和尼康,成为全球光刻机工艺的No.1。”

伯特很得意,欧美资本对ASML的支持完全可以用不遗余力来形容。

即便是在金融危机期间,先是荷兰给了ASML一笔10亿美元的无息贷款,然后是英特尔和台积电参与了ASML的再融资。

要知道台积电可是裁员了一万人。

而ASML不仅没有裁员,反而扩充了研发部门。

新芯也没闲着,同样扩大了对新芯光刻机以及上下游国产供应商的扶持,同时为了打压ASML的市场,新芯光刻机还降价了。

新芯和AMSL在光刻机领域的竞争,带来的直接后果就是尼康和佳能被干得奄奄一息,ASML和新芯光刻机扩张的员工,大部分都来自尼康和佳能。

尼康别说扩张和研发,他们连之前的产能都维持不住了。

要不是华盛顿盯着,尼康甚至想把光刻机业务剥离出来卖给新芯。不让我玩,我干脆不玩了。

“在芯片设计阶段,ASML的一体化光刻技术使用实际的光刻机配置和调节功能,以工艺窗口最大化为目标来创建瞄准指定工艺世代和应用的设计。

他们采用了全新的光源掩模优化技术,可以为光瞳形状带来灵活性,并提供额外设计自由度。ASML这次旧金山的发布会放了很多大招,这些技术的结合,使光源掩模和照明源实现无以伦比的协同优化,帮助他们获得了最大的工艺窗口。”林本坚神情凝重。

因为ASML提前放出消息,称他们这次会有很多新技术。所以林本坚是去参加了旧金山的电子展,他在参加完回到张江后倍感压力。

“在制造过程中,ASML他们整的这套一体化光刻技术充分利用独特的测量技术和反馈回路,可以实时监控刻蚀精度和CPU性能,使系统持续以工艺规格为中心。”林本坚继续说。

新芯光刻机的技术专家们汇聚一堂,大家都在讨论ASML这次放的大招,可能给新芯光刻机带来的影响,以及他们要怎么追赶。

“老实说这一套我们也能搞,问题是我们需要知道,ASML在这套技术路线里,设置了哪些专利墙,如果专利墙太多,我们可能要想绕开的办法。”新芯光刻机的某位技术专家说。